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产品号GS66508P
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ECAD Model

VDS650 V E-HEMT
IDS30 A
RDS(on)50 mΩ
QG5.8 nC
尺寸(MM)10.0 x 8.7 x 0.51
散热底部

GS66508P

650V增强型氮化镓晶体管

GS66508P是增强型硅基氮化镓功率晶体管。 氮化镓的特性允许大电流,高电压和高开关频率。 氮化镓系统 (GaN Systems) 采用具有专利岛技术®的单元布局实现大电流晶片性能和良率。 GaNPX®封装可实现小型封装中的低电感和低热阻。 GS66508P是一款底部散热晶体管,可为要求苛刻的高功率应用提供极低的结至外壳热阻。 这些功能结合在一起可提供非常高效的功率变换。

  • 超低品质因数(FOM)岛技术®晶片
  • 低电感GaNPX®封装
  • 简单的门极驱动要求(0 V至6 V)
  • 瞬态容错门极驱动(-20 V / + 10 V)
  • 非常高的开关频率(> 10 MHz)
  • 快速和可控的下降和上升时间
  • 反向电流能力
  • 零反向恢复损耗
  • 小尺寸10.0 x 8.7 mm2占板面积
  • 源极检测(SS)焊盘用于优化门极驱动
  • 符合RoHS 3 (6+4)标准

应用

  • 高效率的功率转换
  • 高功率密度的功率转换
  • AC-DC转换器
  • 无桥图腾柱PFC
  • ZVS移相全桥
  • 半桥拓扑
  • 同步降压或升压
  • 不间断电源
  • 工业电机驱动器
  • 单相和3相逆变器桥臂
  • 太阳能和风力发电
  • 快速充电
  • D类音频放大器
  • 400 V输入DC-DC转换器
  • 车载电池充电器
  • 牵引驱动器

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